一、 影响电性能的因素

纯钽片主要应用于电子工业制作液体钽电容器钽盖，对化学成分、力学性能、电性能、抗脆性能、表面状态、公差尺寸等有严格的要求。尤以电性能为重要，现就钽片的内在质量对电性能的影响，作如下探讨。

1.化学成分。化学成分是影响电性能主要因素之一，化学成分越纯，电性能越好，尤其要严格控制C、N、O及高熔点杂质的含量，这是因为，C、N能与Ta反应生成高熔点化合物TaC (熔点3800℃)、TaN(熔点2980℃)，而氧则与高熔点金属杂质Zr、Ti等，生成第二相氧化粒子，这些化合物熔点高，不易去除，当钽片氧化形成膜，电流集中流经这些杂质存在的部位，伴随发热，使周围的Ta₂O₅晶化，形成氧化膜不连续，出现裂纹和疵点，漏电流增加。当N含量由50增至300ppm时，漏电流增加20倍，C含量由30增至200ppm，漏电流由35增至200微安/克，即漏电流随含碳量增加而急剧增加，致使钽块闪火电压下降；O含量从220增加到720ppm，也会使漏电流增加5—10倍。

钽片化学成分不同电性能也不同。

2.晶粒度。取两个不同晶粒、制作工艺条件相同的片材，测定粒度，1号样晶粒度为7—8级，2号样晶粒度为4级，电性能如表 2。

晶粒越大，晶界面积越少，杂质分布于晶界，致使漏电流增加，反之亦然。

3.表面状况好坏，直接影响片材电性能，取一块片材，分别人为地造成不同缺陷，相同条件下，测得试样的漏电流值如表 3。

从表 3可知，缺陷影响电性能，且缺陷的形式不同影响程度也不同，针状孔洞最有害，因为表面无缺陷时，氧化膜致密均匀，漏电流小，一旦发生机械划痕、孔洞和疵点，其阳极氧化膜出现缺陷，漏电流随之增加，导致膜层与缺陷部位金属附着不牢，甚至脱落，且缺陷多，很难形成氧化膜，造成电场集中，在较低的电压条件下，也会发生闪火，将膜层破坏，形成晶化，漏电流急剧增加。

4.后续加工。取片材一块，测试电性能，再将其冲压成钽盖测试电性能。

片材经加工遭受破坏且晶粒变形、位错密度增大，出现新缺陷，漏电流随之增加。

二、 结语

1.化学成分越好漏电流越小，尤其是CN、O含量应尽量降低。

2.在保证机械性能的前提下，晶粒度控制得越细，漏电流越小，以7—8级为宜。

3.表面缺陷导致漏电流增加，针状孔洞最为有害。